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<Concise Report> 차세대 나노 임프린트 기술동향(2018년 1월 조사)(일본어판)
자료코드: R60200502 / 2018년 5월 15일 발행 / B5 33 / 30,000엔(PDF로만 제공)
YDB회원 열람 불가


◆조사개요

본 조사 리포트는 정기간행물 Yano E Plus 2018년 2월호에 게재된 내용입니다.

■리서치 내용

~획기적인 기술적 전진으로 먼저 반도체 미세화의 난관을 돌파해 광학 및 바이오 등으로∼

   1. 포트리소그래피에서 나노임프린트로
   2. 3D패터닝 기술로서의 NIL 특징
   3. 차세대 NIL의 적용 분야
   3-1. 반도체 소자
   3-2. 광학 소자
   3-3. 바이오 소자
   3-4. 태양전지
   4. NIL의 시장규모 예측
   【그림·표1. NIL의 일본국내 및 WW시장규모 예측(금액:2020-2040년 예측)】
   【그림·표2. NIL의 수요 분야별 WW시장규모 예측(금액:2020-2040년 예측)】
   5. 차세대 NIL와 관계되는 기업·연구기관의 eod,d 동향
   5-1. 캐논 주식회사
   【그림1. J-FIL 프로세스를 스핀 코트 프로세스와 비교한 그림】
   【그림2. NIL의 스루풋 개선】
   【그림3. J-FIL 프로세스에 의한 드롭의 크기와 충전시간】
   5-2. 주식회사 협동인터내셔널
   【그림4. 마이크로 렌즈 어레이의 NIL 사례】
   【그림5. 「TEX-System」의 개요】
   【그림6. Si기판 임프린트 실례】
   5-3. SCIVAX 주식회사
   5-4. 국립연구개발법인 산업기술종합연구소
   5-5. JXTG에너지 주식회사
   【그림7. 글라스 임프린트와 필름 임프린트의 모식도】
   【그림8. 「Nanoable™ Waveplate」의 구성을 나타내는 모식도】
   【그림9. 구조복굴절형판 위상차필름의 외관과 SEM상】
   5-6. 다이니혼인쇄 주식회사(DNP)
   【그림10. 「DNP 나노 임프린트 솔루션의 모식도】
   【그림11. 나노 오더의 마스터 금형 제작 사례】
   5-7. DIC 주식회사
   5-8. 학교법인 도쿄이과대학
   【그림12. 3D나노 구조장치 좌:3D나노 스탬프, 우:NIL에 의한 전사 결과】
   【그림13. 새로 개발한 모스아이 구조의 SEM 사진】
   5-9. 도시바기계 주식회사
   5-10. 도시바메모리 주식회사
   【그림14. NIL 프로세스의 개요를 나타낸 모식도】
   【그림15. 광경화식 NIL 프로세스를 나타낸 모식도(좌)와 생성물의 SEM상(우)】
   5-11. 국립대학법인 도호쿠대학
   5-12. 돗판인쇄 주식회사
   5-13. 동양합성공업 주식회사
   【그림16. 동양합성공업 「PAK-01」의 다양한 도포 막두께 라인업】
   5-14. Nanocraft technologies 주식회사
   6. 차세대 NIL의 장래 전망

http://blog.naver.com/yanokorea/221282994191
30,000엔
2018-05-15
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발행일
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